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機(jÄ«)床商務(wù)ç¶²(wÇŽng)欄目 機(jÄ«)床上下游】2月25日消æ¯ï¼Œ
Intel宣布,ASML首批兩臺(tái)高數(shù)值å”徑(High-NA EUV)極紫光刻機(jÄ«)已經(jÄ«ng)åœ¨å…¶å·¥å» æŠ•å…¥ç”Ÿç”¢(chÇŽn)ã€‚åˆæ¥æ•¸(shù)據(jù)顯示,其效率ã€å¯é 性比上一代EUV光刻機(jÄ«)都有明顯æå‡ã€‚
  Intel資深首å¸å·¥ç¨‹å¸«Steve Carson表示,Intel利用先進(jìn)光刻機(jÄ«)已在一å£å…§(nèi)生產(chÇŽn)3è¬(wà n)片晶圓,這些晶圓å¯ä»¥ç”¢(chÇŽn)出數(shù)åƒé¡†è¨ˆ(jì)算芯片。
  這兩臺(tái)光刻機(jÄ«)是目å‰ä¸–界上最先進(jìn)的光刻機(jÄ«)ï¼Œèƒ½å¤ æ¯”ä¹‹å‰çš„阿斯麥光刻機(jÄ«)生產(chÇŽn)出更å°ã€æ›´å¿«çš„計(jì)算芯片。
  去年,Intelæˆç‚ºäº†å…¨çƒé¦–家接收這些光刻機(jÄ«)çš„èŠ¯ç‰‡åˆ¶é€ å•†ã€‚æ¤èˆ‰æ˜¯Intel的戰(zhà n)略轉(zhuÇŽn)變,該公å¸åœ¨é‡‡ç”¨ä¸Šä¸€ä»£æ¥µç´«å¤– (EUV) 光刻機(jÄ«)æ–¹é¢è½åŽäºŽç«¶(jìng)çˆ(zhÄ“ng)å°(duì)手。
  Intel花了七年時(shÃ)é–“æ‰å°‡ä¹‹å‰çš„æ©Ÿ(jÄ«)å™¨å…¨é¢æŠ•å…¥ç”Ÿç”¢(chÇŽn),導(dÇŽo)è‡´å…¶é ˜(lÇng)先優(yÅu)å‹¢(shì)被臺(tái)ç©é›»è¶…越。 在生產(chÇŽn)åˆæœŸï¼ŒIntelæ›¾å› å…ˆå‰é‚£äº›EUV機(jÄ«)型的å¯é 性å•(wèn)題而é‡åˆ°æŒ«æŠ˜ã€‚
  ä¸éŽ(guò)Carson表示,
ASML的高數(shù)值å”徑(High-NA EUV)極紫光刻機(jÄ«)åœ¨åˆæ¥æ¸¬(cè)試ä¸çš„å¯é 性大約是å‰ä¸€ä»£æ©Ÿ(jÄ«)器的兩å€ï¼Œ“我們能以一致速度生產(chÇŽn)晶圓,這å°(duì)平臺(tái)是一大幫助”。 ã€€ã€€åŒæ™‚(shÃ),新的光刻機(jÄ«)能以更少æ›å…‰æ¬¡æ•¸(shù)完æˆèˆ‡æ—©æœŸè¨(shè)備相åŒçš„工作,從而節(jié)çœæ™‚(shÃ)é–“å’Œæˆæœ¬ã€‚ Carson指出,Intelå·¥å» çš„æ—©æœŸçµ(jié)果顯示,高數(shù)值å”徑(High-NA EUV)極紫光刻機(jÄ«)åªéœ€è¦ä¸€æ¬¡æ›å…‰å’Œå€‹(gè)使•¸(shù)çš„è™•ç†æ¥é©Ÿï¼Œå³å¯å®Œæˆæ—©æœŸæ©Ÿ(jÄ«)器需è¦ä¸‰æ¬¡æ›å…‰å’Œç´„40個(gè)è™•ç†æ¥é©Ÿçš„工作。
  去年2月份,ASML首次在其è·è˜ç¸½éƒ¨å‘媒體公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機(jÄ«)。
  據(jù)悉,一套High NA EUV光刻機(jÄ«)的大å°ç‰åŒäºŽä¸€è‡º(tái)雙層巴士,é‡é‡æ›´é«˜é”(dá)150噸,組è£èµ·ä¾†(lái)比å¡è»Šé‚„大,需è¦è¢«åˆ†è£åœ¨250個(gè)å–®ç¨(dú)çš„æ¿æ¢ç®±ä¸é€²(jìn)行é‹(yùn)輸。
ã€€ã€€è£æ©Ÿ(jÄ«)時(shÃ)é–“é (yù)計(jì)需è¦250åå·¥ç¨‹äººå“¡ã€æ·æ™‚(shÃ)6個(gè)月æ‰èƒ½å®‰è£å®Œæˆã€‚
ã€€ã€€æ ¹æ“š(jù)爆料顯示,High NA EUV的售價(jià )高é”(dá)3.5å„„æå…ƒä¸€è‡º(tái),約åˆäººæ°‘å¹£27億元,它將æˆç‚ºå…¨çƒä¸‰å¤§æ™¶åœ“åˆ¶é€ å» å¯¦(shÃ)ç¾(xià n)2nm以下先進(jìn)制程大è¦(guÄ«)模é‡ç”¢(chÇŽn)的必備æ¦å™¨ã€‚
  2023å¹´12月,Intel率先拿下了全çƒé¦–臺(tái)High NA EUV光刻機(jÄ«),臺(tái)ç©é›»å’Œä¸‰æ˜Ÿè¨‚è³¼(gòu)High NA EUVé (yù)計(jì)最快2026年到貨。
  公開資料顯示,NA數(shù)值å”徑是光刻機(jÄ«)å…‰å¸(xué)系統(tÇ’ng)çš„é‡è¦æŒ‡æ¨™(biÄo),直接決定了光刻的實(shÃ)éš›åˆ†è¾¨çŽ‡ï¼Œä»¥åŠæœ€é«˜èƒ½é”(dá)到的工è—節(jié)點(diÇŽn)。
  一般來(lái)說(shuÅ),金屬間è·ç¸®å°åˆ°30nm以下之åŽï¼Œä¹Ÿå°±æ˜¯å°(duì)應(yÄ«ng)的工è—節(jié)點(diÇŽn)è¶…è¶Š5nm,低數(shù)值å”徑光刻機(jÄ«)的分辨率就ä¸å¤ 了,åªèƒ½ä½¿ç”¨EUV雙釿›å…‰æˆ–æ›å…‰æˆå½¢(pattern shaping)技術(shù)來(lái)輔助。
  這樣ä¸ä½†æœƒ(huì)å¤§å¤§å¢žåŠ æˆæœ¬ï¼Œé‚„會(huì)é™ä½Žè‰¯å“çŽ‡ã€‚å› æ¤ï¼Œæ›´é«˜æ•¸(shù)值å”徑æˆç‚ºå¿…需。
  Intel表示,計(jì)劃使用High NA EUV光刻機(jÄ«)來(lái)å”(xié)助開發(fÄ)å…¶18A制程,該技術(shù)é (yù)計(jì)ä»Šå¹´ç¨æ™šæ™‚(shÃ)隨著新一代PC芯片進(jìn)å…¥é‡ç”¢(chÇŽn)。
  æ¤å¤–,Intel計(jì)劃在下一代14A制程ä¸å…¨é¢å°Ž(dÇŽo)入這款è¨(shè)備,但尚未公布該技術(shù)é‡ç”¢(chÇŽn)時(shÃ)間。
  原標(biÄo)題:世界最先進(jìn)ï¼ASML High-NA EUV光刻機(jÄ«)已在Intel投入生產(chÇŽn):晶圓生產(chÇŽn)效率ã€å¯é 性翻å€
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